/ 熱分析儀 /
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Thin Film Laser Flash / 薄膜導熱分析儀
TF-LFA LaserFlash for thin films Thermal Conductivity/Diffusivity LaserFlash for thin film measurements (from 80 nm up to 20 µm)

材料的熱物理性質以及最終產品的傳熱優化在工業應用領域變得越來越重要。
  經過幾十年的發展,閃射法已經成為最常用的用於各種固體、粉末和液體熱導率、熱擴散係數的測量方法。
      薄膜熱物性在工業產品中正變得越來越重要,如:相變光盤介質、熱電材料、發光二極管(LED ) ,相變存儲器、平板顯示器以及各種半導體。在這些工業領域中,特定功能沉積膜生長在基底上以實現器件的特殊功能。由於薄膜的物理性質與塊體材料不同,在許多應用中需要專門測定薄膜的參數。
  基於已實現的激光閃射技術,LINSEIS TF-LFA 薄膜導熱測試儀(Laserflash for thin films)可以測量80nm——20μm厚度薄膜的熱物理性質。
 

 
1.瞬態熱反射法(後加熱前檢測(RF)):
     由於薄膜材料的物理性質與基體材料顯著不同,必需要有相應的技術來克服傳統激光閃射法的不足,即瞬態熱閃射法。
   測量模型與傳統激光閃射法相同:檢測器和激光器在樣品兩側。考慮到紅外探測器測試薄膜太慢,因此檢測是通過熱反射方法完成的。該技術的原理是材料在加熱時,表面反射率的變化可最終用於推導出熱性能。測量反射率隨時間的變化,得到的數據代入包含的係數模型裡面并快速計算出熱性能。

2. 時域熱反射法(前加熱前檢測(FF)):
     時域熱反射技術是另一種測試薄層或薄膜熱性能(熱導率,熱擴散率)的方法。測量方式的幾何構造被稱為“前加熱前檢測(FF)”,因為檢測器和激光在樣品上的同一側。該方法可以應用於非透明基板上不適合使用RF技術的薄膜層。 
 
3. 瞬態熱反射法(RF)和時域熱反射法(FF)相結合:
兩種方法可以集成在一個系統中並實現兩者優點的結合。