產品介紹

熱膨脹分析儀 DIL, TMA

Laser雷射熱膨脹儀|高精度熱膨脹測試設備

Product details

雷射熱膨脹儀 L75 Laser|超高解析度非接觸式熱膨脹測試系統

L75 Laser 雷射熱膨脹儀採用雷射干涉量測技術,具備高達 0.3 nm 的超高解析度,特別適用於低熱膨脹係數材料與半導體關鍵材料的精密熱膨脹量測。 其非接觸式設計可避免樣品受力干擾,使量測數據在高溫、高穩定性需求環境下仍能維持極高的準確度。

設備支援多種氣氛條件與寬廣的溫度區間,適用於材料研發、品質控管與高階工程驗證。


產品簡介

L75 Laser 是針對超低膨脹係數材料而設計的高精度熱膨脹儀,搭載雷射光學干涉系統,不僅提供極高解析度,更具備絕對量測特性(Absolute Measurement),可在無需額外校準的情況下獲得高可信度數據。 此系統特別適用於石英玻璃、陶瓷、碳基材料、殷鋼以及半導體封裝材料之高精度膨脹分析。


主要特色

  • 超高解析度 0.3 nm:比傳統推桿式熱膨脹儀高 30 倍以上的測量精度。
  • 樣品形狀彈性高:無需特定幾何形狀,適合非標準形狀材料。
  • 絕對量測系統:不需外部標準品校正即可獲得準確數據。
  • 非接觸式光學偵測:避免接觸力、摩擦與推桿變形造成的誤差。
  • 雙溫區配置:可選擇 -180°C ~ 500°C 或室溫 ~ 1000°C。
  • 多氣氛量測:支援惰性、氧化、還原與真空環境。
  • 材料適用性廣:特別適用於玻璃、陶瓷、石英、碳材料與半導體元件。

應用領域

  • 低膨脹材料:石英玻璃、碳材料、陶瓷、玻璃陶瓷、殷鋼等。
  • 半導體產業:封裝材料、散熱材料與高精度元件的 CTE 測試。
  • 品質控制:金屬元件、密封膠、工程材料熱穩定性分析。
  • 科研與高階研發:材料科學、航太、光電與軍工相關應用。

技術規格

項目 L75 Laser 規格
溫度範圍 -180°C ~ 500°C / RT ~ 1000°C(依模組)
解析度 0.3 nm
加熱/冷卻速率 0.01 ~ 50 K/min
樣品支架 熔融石英(Fused Silica)
樣品長度 最高 20 mm
樣品直徑 最高 ∅ 7 mm
氣氛環境 惰性、氧化、還原、真空
介面 USB

影片介紹

觀看 L75 Laser 示範影片(YouTube)


 
CONTACT
業務聯絡|郭文龍
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