超微細孔陶瓷動態濃縮／過濾／清洗系統

本系統採用超微細孔陶瓷過濾盤，孔徑選擇範圍涵蓋 2 μm、0.5 μm、0.2 μm、 60 nm、30 nm、7 nm，可滿足粉體濃縮、液固分離、精密過濾與材料清洗等多種製程需求。

設備以高速流動方式進行動態濃縮、過濾與清洗，可支援連續式生產，適合大量、高效率、 長時間操作的製程條件。直立封閉式設計提升操作安全性，並降低外界污染風險；穩定流速設計 能有效降低功率需求與整體生產成本。

系統清洗方式簡單快速，適合多配方切換，並能提升生產效率與稼動率。

產品特性

• 採用超微細孔陶瓷過濾盤：提供 2 μm、0.5 μm、0.2 μm、60 nm、30 nm、7 nm 多種孔徑選擇。
• 高速流動動態濃縮、過濾與清洗，可連續式運轉。
• 直立封閉式設計，提高安全性並降低污染風險。
• 穩定流速設計可降低設備功率需求與生產成本。
• 清洗作業快速簡單，適合多配方製程切換。