雙氧水去除技術｜改質顆粒活性碳催化系統
本技術採用改質顆粒活性碳（modified AC）作為雙氧水（H₂O₂）催化劑，具備高相容性、高反應速率與低系統建置成本， 適用於先進半導體、TFT-LCD、光電與化學製程中之含雙氧水廢液處理，可有效降低後段製程負荷並提升水回收效率。
技術產品特徵
- 改質顆粒活性碳催化：以 modified AC 作為高效雙氧水催化劑，反應快速且穩定。
- 耐強酸環境：可直接作用於高濃度硫酸等強酸條件，無需調整 pH。
- 無需額外化學品：不需添加 HCl 等助劑，無氯氣（Cl₂）等副產物產生，安全環保。
- 系統成本低：流程簡單、設備需求低，適合作為既有製程端的升級方案。
應用領域
- Piranha Clean (SPM) 回收系統：適用於 SPM 清洗後含 H₂O₂ 的硫酸回收再生，提高藥液利用率。
- CMP / 濕蝕刻廢水處理：有效去除雙氧水、降低生物毒性、提升製程廢水回收率。